Analisador de metais de alto desempenho de 4ª geração
Detecção de metais por descarga de faísca baseada em CMOS
Limites de detecção ultrabaixos
Alto nível de integração, confiabilidade e estabilidade.
Redução dos custos operacionais e facilidade de manutenção.
Câmara óptica a vácuo e baixo consumo de argônio
Tecnologia de jato de argônio para otimizar a análise de pequenas amostras.
Modificação de parâmetros padronizados
Máximo de 30+ elementos
Análise de nitrogênio (N) elevado: 0,03-0,9%
Resumo:
O espectrômetro de emissão óptica W5 incorpora tecnologia avançada da Europa. É o 4º o A geração de espectrômetros de emissão óptica por arco/faísca (Arc/Spark-OES) de alto desempenho reduz os custos operacionais para análise de metais, sendo o mais recente desenvolvimento em equipamentos de detecção. O projeto óptico geral foi aprimorado, com melhorias na tecnologia CMOS, o que permite otimizar ainda mais o desempenho do W5, mantendo as principais vantagens das unidades anteriores. O espectrômetro CMOS não só possui as características de espectro completo de um espectrômetro CCD, como também apresenta um limite de detecção extremamente baixo para elementos não metálicos como C, S, P, B, As, N, etc. A operação é simples e fácil de aprender. Os resultados dos testes são estáveis e precisos. É uma excelente opção para o controle de qualidade de produtos de entrada e saída, abrangendo todos os metais comuns.
Aplicativo:
O espectrômetro de emissão óptica W5 (OES por faísca) é utilizado em aplicações de análise elementar de metais e análise de elementos traço para ciência e indústria, como metalurgia, fundição, engenharia mecânica, pesquisa científica, inspeção de produtos, indústria automotiva, engenharia petroquímica, construção naval, elétrica, aeroespacial, energia nuclear, fundição, processamento e reciclagem de metais ferrosos e não ferrosos.
Usinas siderúrgicas que exigem alta precisão ou elementos como C, N, Cr, S, P etc.
Laboratórios de Teste: Laboratórios de teste comerciais, universidades e faculdades.
Aplicações de metais puros: pureza Al, Pb, Zn, C u etc. – a maioria dos usuários industriais
Conformidade regulamentar: Limites de detecção muito baixos para controlar Pb, Cd, As, etc.
Fundições que necessitam de uma análise rápida perto do forno
Instalações de fabricação
Identificação de materiais no armazém
Base: Fe, Cu, Al, Ni, Co, Mg, Ti, Zn, Pb, Sn, Ag, Mn, Cr etc.
Características :
1. Sistema Óptico de Desempenho Superior, Digital Inteligente parque Fonte
2. Ele pode detectar elementos como C, P, S e N, sendo adequado para uma variedade de bases metálicas.
3. O projeto do circuito de gás argônio é adequado para reduzir o tempo de lavagem com argônio durante a excitação da amostra.
4. A taxa de análise é rápida, todos os elementos no canal podem ser testados em 20 segundos.
5. A armadilha de absorção sólida pode impedir que óleo e gás contaminem a câmara de luz e melhorar sua estabilidade.
6. Modificação padronizada de parâmetros.
7. Função de correção da amostra de controle.
8. Os componentes principais são todos originais e importados para garantir a qualidade dos produtos.
Parâmetro :
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Item |
Índice |
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Sistema óptico |
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Estrutura óptica |
Sistema óptico de construção Paschen Runge totalmente a vácuo |
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Temperatura ambiente |
35℃±0,5℃ |
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Faixa de comprimento de onda |
130-800nm |
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Distância focal |
400 mm |
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Linha de grade |
2400m1/mm |
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Dispersão de linha espectral de primeira ordem rara |
1,2 nm/mm |
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Detector |
Matriz CMOS linear de alto desempenho com múltiplos blocos |
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taxa de resolução média |
22h/pixel |
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Tabela de faíscas |
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Gás |
Gás argônio (99,999%) |
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Taxa de fluxo de argônio |
Quando a faísca: 3-5 L/min Tempo de espera: sem necessidade de tráfego de espera |
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Eletrodo |
tecnologia de eletrodo de tungstênio |
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Purga |
Função de purga automática |
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Inventar |
Projeto de autocompensação de deformação térmica |
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Analise a lacuna |
Estágio da amostra: 3,4 mm |
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Fonte Spark |
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Tipo |
HEPS |
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Freqüência |
100-1000 Hz |
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Corrente de descarga |
1-400A |
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Tecnologia especial |
Otimização do projeto de parâmetros de descarga |
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Pré-combustão |
Tecnologia de pré-combustão de alta energia |
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Processador |
ARM de alta gama, aquisição e processamento de sincronização de dados em alta velocidade. |
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Sistema de coleta de dados |
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Interface |
Transmissão de dados Ethernet baseada em DM9000A |
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Poder |
220 VCA 50/60 Hz (Personalizado) |
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Outros |
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Base |
Fe, Cu, Al, Ni, Co, Mg, Ti, Zn, Pb, Sn, Ag, Mn, Cr etc. |
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Consumo de energia |
Potência máxima: 750 W; Potência em espera: 40 W |
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Temperatura de trabalho |
10-35℃ ( temperatura ≥5°C) |
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Umidade de trabalho |
20-85% |
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Dimensão |
860 mm (C) * 680 mm (L) * 438 mm (A) |
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Peso |
Aproximadamente 100 kg |
Analisador de metais de alto desempenho de 4ª geração
Detecção de metais por descarga de faísca baseada em CMOS
Limites de detecção ultrabaixos
Alto nível de integração, confiabilidade e estabilidade.
Redução dos custos operacionais e facilidade de manutenção.
Câmara óptica a vácuo e baixo consumo de argônio
Tecnologia de jato de argônio para otimizar a análise de pequenas amostras.
Modificação de parâmetros padronizados
Máximo de 30+ elementos
Análise de nitrogênio (N) elevado: 0,03-0,9%
Analisador de metais de alto desempenho de 4ª geração
Detecção de metais por descarga de faísca baseada em CMOS
Limites de detecção ultrabaixos
Alto nível de integração, confiabilidade e estabilidade.
Redução dos custos operacionais e facilidade de manutenção.
Câmara óptica a vácuo e baixo consumo de argônio
Tecnologia de jato de argônio para otimizar a análise de pequenas amostras.
Modificação de parâmetros padronizados
Máximo de 30+ elementos
Análise de nitrogênio (N) elevado: 0,03-0,9%
Analisador de metais de alto desempenho de 4ª geração
Detecção de metais por descarga de faísca baseada em CMOS
Limites de detecção ultrabaixos
Alto nível de integração, confiabilidade e estabilidade.
Redução dos custos operacionais e facilidade de manutenção.
Câmara óptica a vácuo e baixo consumo de argônio
Tecnologia de jato de argônio para otimizar a análise de pequenas amostras.
Modificação de parâmetros padronizados
Máximo de 30+ elementos
Análise de nitrogênio (N) elevado: 0,03-0,9%
Analisador de metais de alto desempenho de 4ª geração
Detecção de metais por descarga de faísca baseada em CMOS
Limites de detecção ultrabaixos
Alto nível de integração, confiabilidade e estabilidade.
Redução dos custos operacionais e facilidade de manutenção.
Câmara óptica a vácuo e baixo consumo de argônio
Tecnologia de jato de argônio para otimizar a análise de pequenas amostras.
Modificação de parâmetros padronizados
Máximo de 30+ elementos
Análise de nitrogênio (N) elevado: 0,03-0,9%
Analisador de metais de alto desempenho de 4ª geração
Detecção de metais por descarga de faísca baseada em CMOS
Limites de detecção ultrabaixos
Alto nível de integração, confiabilidade e estabilidade.
Redução dos custos operacionais e facilidade de manutenção.
Câmara óptica a vácuo e baixo consumo de argônio
Tecnologia de jato de argônio para otimizar a análise de pequenas amostras.
Modificação de parâmetros padronizados
Máximo de 30+ elementos
Análise de nitrogênio (N) elevado: 0,03-0,9%
Analisador de metais de alto desempenho de 4ª geração
Detecção de metais por descarga de faísca baseada em CMOS
Limites de detecção ultrabaixos
Alto nível de integração, confiabilidade e estabilidade.
Redução dos custos operacionais e facilidade de manutenção.
Câmara óptica a vácuo e baixo consumo de argônio
Tecnologia de jato de argônio para otimizar a análise de pequenas amostras.
Modificação de parâmetros padronizados
Máximo de 30+ elementos
Análise de nitrogênio (N) elevado: 0,03-0,9%
Analisador de metais de alto desempenho de 4ª geração
Detecção de metais por descarga de faísca baseada em CMOS
Limites de detecção ultrabaixos
Alto nível de integração, confiabilidade e estabilidade.
Redução dos custos operacionais e facilidade de manutenção.
Câmara óptica a vácuo e baixo consumo de argônio
Tecnologia de jato de argônio para otimizar a análise de pequenas amostras.
Modificação de parâmetros padronizados
Máximo de 30+ elementos
Análise de nitrogênio (N) elevado: 0,03-0,9%
Mede com precisão o peso da membrana do filtro antes e depois extração de limpeza , determinando assim o peso do contaminantes particulados nos componentes.
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